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中微半导体科创板上市招股说明书解析:LED应用增量空间巨大

科创板正式开市交易的日期越来越近,科创板规则体系基本万事具备,拟上市公司受理审核也在稳步推进,据了解,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微半导体”)近日首次公开科创板上市招股说明书,拟募集资金100,000.00万元用于高端半导体设备扩产升级、技术研发中心建设升级项目及补充流动资金等。

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近年来,随着持续旺盛的下游市场需求推动下,晶圆厂和LED芯片制造商扩产积极,景气程度向设备类公司传导,刻蚀设备、MOCVD设备行业整体呈现快速增长态势。中微半导体在市场利好之势中募资扩产,正是看好了半导体市场的未来前景,上市科创板助力企业快速发展。

中微半导体MOCVD设备研发技术过硬

据了解,中微半导体是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,是我国集成电路设备行业的领先企业,聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。开发出与美国设备公司具有同等质量和相当数量的等离子体刻蚀设备并实现量产。

在薄膜沉积设备方面,2010年中微半导体开始开发用于LED器件加工中最关键的设备——MOCVD设备。目前已开发了三代MOCVD设备,该设备是一种高端薄膜沉积设备,主要用于蓝绿光LED和功率器件等生产加工,包括第一代设备PrismoD-Blue、第二代设备PrismoA7及第三代更大尺寸设备。通过向全球领先的集成电路和LED芯片制造商提供极具竞争力的高端设备、工艺技术解决方案和高质量服务,帮助客户提升技术水平、提高生产效率、降低生产成本。

如今,中微半导体的等离子体刻蚀设备已应用于国际先进的14纳米、7纳米和5纳米生产线;开发的大型MOCVD设备逐步替代进口设备。截至2018年末,中微半导体累计已有1,100多个反应台服务于国内外40余条先进芯片生产线。自主研发的MOCVD设备已被多家领先LED生产厂家使用和认可,据统计显示,2018年中微半导体在全球氮化镓基LEDMOCVD设备市场占据领先地位。

中微半导体的MOCVD设备研发、设计、生产、销售业务集中在2017年12月15日的中微南昌,注册资本2,500万元,实收资本1,650万元,发行人认缴出资2,500万元,占注册资本的100%。截至2018年12月31日,中微南昌的总资产为71,563.51万元,净资产为5,849.64万元,2018年净利润为5,640.15万元。

中微半导体基于在半导体制造设备产业多年积累的专业技术,涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED生产、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域,瞄准世界科技前沿,坚持自主创新。该公司的等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用。该公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列、国内占领先地位的氮化镓基LED设备制造商。

资产规模与营收规模双增长 LED设备成长突出

2016-2018年,中微半导体总资产规模分别为107,852.84万元、227,602.14万元和353,267.90万元,营业收入分别为60,952.84万元、97,192.06万元和163,928.83万元,年均复合增长率达64%,资产规模与营收规模均快速增长,成长性突出。

2016-2018年中微半导体业绩数据

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2017年度、2018年度营业收入同比增长分别为59.45%和68.66%,报告期内年均复合增长率为64.00%。

营业收入构成情况:

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2016-2018年,中微半导体营业收入基本上来源于主营业务收入。2017年和2018年,主营业务收入分别为97,164.56万元、163,882.27万元,分别较上年度增长59.41%和68.66%。

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